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晶圓貼膜機(jī)

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產(chǎn)品型號(hào)DFM2800

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更新時(shí)間：2023-05-23 09:12:26瀏覽次數(shù)：283次

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產(chǎn)品簡介

進(jìn)一步實(shí)現(xiàn)超薄晶圓的高速處理Φ300mmDBGSDBGWaferThinning實(shí)現(xiàn)高良率的薄型化技術(shù)DFM2800是為了處理300mm超薄晶圓，特意與背面研削機(jī)組成聯(lián)機(jī)系統(tǒng)的晶圓貼膜機(jī)

詳細(xì)介紹

進(jìn)一步實(shí)現(xiàn)超薄晶圓的高速處理

Φ300 mm
DBG
SDBG
Wafer Thinning

實(shí)現(xiàn)高良率的薄型化技術(shù)

DFM2800是為了處理Φ300 mm超薄晶圓，特意與背面研削機(jī)組成聯(lián)機(jī)系統(tǒng)的晶圓貼膜機(jī)。針對(duì)DGP8761研削薄化后的晶圓，可安全可靠地實(shí)施，從粘貼切割膠膜到框架上，到剝離表面保護(hù)膠膜為止的一系列工序。本設(shè)備還可對(duì)應(yīng)SiP（System in Package）制造中的切割膠膜一體化的DAF（Die Attach Film）。

可對(duì)應(yīng)25 μm以下的超薄晶圓

為了滿足Φ300 mm25 μm以下厚度的薄型化要求，把設(shè)備內(nèi)部的晶圓搬運(yùn)次數(shù)降低為以往機(jī)型的1/5，以抑制超薄晶圓的破損風(fēng)險(xiǎn)。另外還在各搬運(yùn)墊/臺(tái)上配置了清洗機(jī)構(gòu)，防止因微塵粒子嵌入而導(dǎo)致的晶圓破損。

高生產(chǎn)效率

通過優(yōu)化各搬運(yùn)部分，連續(xù)工作時(shí)生產(chǎn)效率增加約50 ％ ^※，有助于提高生產(chǎn)性。（與DFM2700相比較）

※實(shí)際的生產(chǎn)效率取決于晶圓的貼膜時(shí)間及表面保護(hù)膠膜的剝離時(shí)間。

豐富的特殊選配

單機(jī)使用時(shí)的機(jī)械手臂/晶圓裝載機(jī)構(gòu)（Load Port）
設(shè)備內(nèi)部對(duì)切割膠膜進(jìn)行預(yù)切割的機(jī)構(gòu)
通過黏性膠膜來剝離表面保護(hù)膠膜的機(jī)構(gòu)
為實(shí)現(xiàn)貼膜后晶圓的條形碼管理的晶圓表面ID識(shí)別機(jī)構(gòu)(Vision system)

操作簡便

在傳承了DFM2700操作方式的同時(shí)，進(jìn)一步擴(kuò)大了操作畫面尺寸，提高了畫面的辨識(shí)性。另外，在與DGP8761的聯(lián)機(jī)系統(tǒng)中，可以由DGP8761選擇DFM2800的加工程序，可對(duì)開始/結(jié)束等進(jìn)行一元化管理。

工作流程系統(tǒng)

接受從背面研削機(jī)傳送過來的加工物 →
對(duì)表面保護(hù)膠膜進(jìn)行UV（紫外線）照射（在使用UV膠膜時(shí)）→
將加工物搬運(yùn)到檢測臺(tái)上（任意選項(xiàng)）→
由影像處理實(shí)施定位校準(zhǔn)作業(yè) →
使用切割膠膜或者 2 in 1 DAF膠膜，將加工物粘貼到膠膜框架上 →
剝離表面保護(hù)膠膜 →
放入膠膜框架晶圓盒

技術(shù)規(guī)格

Specification	Unit
Wafer Diameter	mm	Φ200 / Φ300
Wafer attachment precision and X/Y direction (frame mount)	mm	±0.5 or less
Wafer attachment precision and θ direction (frame mount)	deg	±0.5 or less
Dicing tape attachment precision and X/Y direction	mm	±1.0 or less
Machine dimensions(W×D×H)	mm	2,150 × 2,643 × 1,800
Machine weight	kg	Approx.3,100