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行業產品

  • 行業產品

中普尼實業集團(海南)有限公司


  • 智能離子束刻蝕設備IBE-150/MIBE-150型

    詳細摘要: 產品用途與特點:1、本產品利用低能量平行Ar﹢離子束對基片表面進行轟擊,將基片表面未覆蓋掩膜的部分濺射出,從而達到選擇刻蝕的目的

    產品型號:所在地:海口市更新時間:2023-06-29 在線留言

  • 智能反應離子刻蝕設備RIE-1D/RIE-1E型

    詳細摘要: 產品用途與特點:1、本產品通過物理與化學相結合的方法,對亞微米一下線條進行干法刻蝕,以形成精細圖形

    產品型號:所在地:海口市更新時間:2023-06-29 在線留言

  • 反 應 離 子 刻 蝕 設 備CPN-H 6 7 -12A 型

    詳細摘要: 反應離子刻蝕設備CPN-H67-12A型:該設備主要用于半導體集成電路制造中氮化硅、多晶硅、二氧化硅的干法刻蝕;而且還能刻蝕鉻、氧化鉻、鋁等

    產品型號:所在地:海口市更新時間:2023-06-29 在線留言

  • 等離子刻蝕設備CPN-DK-P290型/CPN-P290A型

    詳細摘要: 本設備是為淀積設備配套而設計的,主要用于半導體集成電路制造過程中對氮化硅、多晶硅的干法腐蝕;而且還能刻蝕二氧化硅、鉻、氧化鉻等各種介質膜和金屬膜

    產品型號:所在地:海口市更新時間:2023-06-29 在線留言

  • 等離子淀積設備CPN-DD—P250型

    詳細摘要: 表面鈍化技術是提高器件的可靠性穩定性的一項有效的措施

    產品型號:所在地:海口市更新時間:2023-06-29 在線留言

  • 智能全自動等離子體化學氣相沉積設備

    詳細摘要: 產品用途與特點1、本設備可在硅片、陶瓷、玻璃、石英、金屬等材料表面沉積SIOx、SINx、非晶硅、微晶硅、納米硅、SIC、類金剛石等多種薄膜,并可沉積摻雜薄膜

    產品型號:所在地:海口市更新時間:2023-06-29 在線留言

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