zui近，市場上出現(xiàn)了一種式的數(shù)字膠印版，人們稱之為熱敏版。熱敏版的感光范圍830nm～1064nm，甚至更寬。其印版技術(shù)包括熔化、燒蝕、轉(zhuǎn)移、交聯(lián)、光電子分解等。無論通過上述哪種技術(shù)成像后，再經(jīng)過顯影便得到印版。由于版材的不同，有些需要經(jīng)過濕加工。
　　
　　1、化學(xué)不溶性
　　
　　通過激光熱，使活性層中的聚合物交聯(lián)，產(chǎn)生化學(xué)不溶性，形成負像，經(jīng)過IR曝光受熱產(chǎn)生酸，催化聚合物粘合劑進行化學(xué)交聯(lián)，使曝光區(qū)有選擇性的進行交聯(lián)。預(yù)加熱程序能夠使多分子反應(yīng)后獲得足夠高的交聯(lián)度。因此，這樣的版要獲得高印程，在預(yù)加熱工藝后采用傳統(tǒng)的濕加工和后烤版，即可得到。預(yù)加熱的寬容度要小，加熱箱的控制性要好。
　　
　　2、物理不溶性
　　
　　該技術(shù)是通過活性層受熱產(chǎn)生物理不溶性物質(zhì)。活性層中含一均勻的分散熱塑流水聚合物乳膠粒子，它能快速溶解，但經(jīng)IR-激光曝光，熱塑聚合物粒子受熱聚結(jié)抑制了聚合層的溶解度，這種粒子的雙重性能產(chǎn)生高質(zhì)量的圖像。該技術(shù)的優(yōu)點是明室化，質(zhì)量穩(wěn)定，同時可內(nèi)外鼓印版圖文輸出成像，屬印圖板，濕加工后再烤版，能得到高印程的版。愛克發(fā)的RD-9版材的感光波長范圍830nm～1100nm，兼有內(nèi)外鼓記錄成像技術(shù)，但目前尚未商品化。
　　
　　3、化學(xué)溶解型
　　
　　這種技術(shù)是通過活性層受熱，產(chǎn)生化學(xué)溶解物質(zhì)，無需加熱，獲得陽圖版，*明室化，濕加工后再烤版，印程高。其活性層可使用酸荃樹脂作基礎(chǔ)，熱成像時，該層的溶解度提高。如果該層中加入紅線-吸收種作為溶解抑制劑的話，就會有選擇性的除掉曝光區(qū)。
　　
　　4、感熱紫外光掩膜
　　
　　該技術(shù)感可見光，用IR-射線進行成像曝光，使紫外線吸收層不再溶于堿性顯影液，從而擔當了下層的紫外光掩膜。另一種形式是通過感紅外的紫外吸收層，經(jīng)熱蝕曝光，對底層的紫外感光層曝光成像，但它的缺點是工藝復(fù)雜，需2部加工才能*或不*去掉紫外掩膜層。
　　
　　5、感熱的物理掩膜
　　
　　此技術(shù)由愛克發(fā)*，是一種新型熱敏陽圖板，取名為Thermostar。它是通過高能激光對物理的掩膜層加熱使其結(jié)構(gòu)發(fā)生改變，該保護層中的炭或IR染料吸收IR光后，紅外光能轉(zhuǎn)化為熱，熱能使活性層中的溫度急劇升高，達到400℃或更高，從而完成曝光。其特定的溫度是由層熱擴散系數(shù)、曝光時間、層厚及鄰層的熱擴散系數(shù)決定，同時，薄活性層能承受光脈沖所產(chǎn)生的膨脹，而且該層的體積和厚度有所增大，相同時間的曝光兩所用的激光能可以完成層中的燒蝕反應(yīng)。
　　
　　由于該版保護層上的IR光吸收容量高，因此對相對低的曝光能級也能產(chǎn)生高溫使保護層發(fā)生物理變形。這種物理變形不僅可以有效的使堿性顯影溶液濕潤版面的曝光部分，而且還能快速的滲透保護層，進入底層，有效的溶解底層，并且比非曝光區(qū)溶解的更快，其保護層對堿性保護膜來說起一種掩膜的作用，顯然它的表面和界面張力是沖洗加工的重要參數(shù)。
　　
　　由此得出結(jié)論，該技術(shù)是利用物理顯影劑的不同作用而成像，這種*的非燒蝕工藝是在層內(nèi)尚未形成有害的揮發(fā)性化合物之前，或?qū)又械牟糠纸M分尚未退化之前就已成像。
由于層中化合物組分在處理時，不會污染環(huán)境。因此利用上述技術(shù)，可以減少危險性，同時還可以不用吸塵設(shè)備而激光燒蝕技術(shù)則需在成像區(qū)配備吸塵設(shè)施。

    6、成像技術(shù)的非燒蝕特性

    燒蝕包括紅外感光層的蒸發(fā)和分解。其間，層中發(fā)生了物理和化學(xué)變化，當該層作為保護層時，燒蝕過的材料蒸發(fā)到空氣中，在大多數(shù)情況下有一部分呈粉末狀，重新沉積在材料的表面。這有可能進而影響到材料的成像，尤其是燒蝕度太高時更甚。當全層均勻著色后，可輕易的擦掉粉末，使該層變薄，化學(xué)密度變小，這種燒蝕媒體用眼睛能夠辨別質(zhì)量好壞，亦可用儀器測試。