上海雙金電子科技有限公司
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精密離子減薄儀用于高質量透射電鏡樣品制備，它可精準定位減薄位置并對工藝參數進行精準控制，利用寬幅氬離子束對樣品進行拋光和鍍膜處理，從而得到高質量的SEM成像和分析結果。
精密離子減薄儀 PIPS II
型號 695
一代PIPS離子減薄系統樹立了透射電鏡（TEM）制樣的行業標準已超20年，而全新一代精密離子減薄儀(PIPS™) II基于一代PIPS有了全新的升級。
PIPS II能對減薄樣品進行精準定位。10英寸觸摸屏簡單易用，提高對減薄區域的精度控制和減薄過程的可重復性。
配備的數碼變焦顯微鏡系統可以實時監測減薄過程，同時可將獲取的彩色圖像存儲于DM軟件中，用于與樣品在TEM中成像對比。
性能優點
? 系統及X-Y可調樣品臺：使用樣品臺來把減薄區域精準定位到離子束交叉點
? 低能量聚焦離子槍：改進低電壓性能的離子槍，有用電壓低至 100 伏，從而快速安全地對 FIB 制備的TEM樣品進行拋光
? 能量從 0.1 keV到 8 keV可調 : 低能范圍的性能提升可以減少非晶層
? 液氮冷臺：消除熱效應產生的樣品損傷
? 10英寸彩色觸摸屏控制：簡單易用的控制圖形用戶界面，可用于顯示和控制所有 PIPS
II 參數
? 數碼變焦顯微鏡系統：實時監測減薄過程
? DigitalMicrograph軟件存儲彩色圖像：可以使用同TEM和EELS數據相同的軟件和光學數碼顯微鏡進行圖像存儲和分析
應用
? 半導體
? 金屬（氧化物，合金）
? 陶瓷
圖1. 平面硅110樣本，PIPS II 制備， 圖2.含1 – 3% wt Ga 的快淬AlPb薄帶，使用 TEAM 0.5 進行
zui終拋光參數：300 V, 4 min. HR-STEM 成像
技術規格
| 離子源 | |
| 離子槍 | 兩個配有低能聚焦能力電極的潘寧離子槍 |
| 拋光角度（°） | +10 到 -10 每支離子槍可獨立調節 |
| 離子束能量 (kV) | 0.1 – 8.0 |
| 離子束流密度峰值 (mA/cm2) | 10 |
| 射束校準 | 使用熒光屏的精密光束校準 |
| 離子束直徑 | 可用氣體流量計或放電電壓來調節 |
| 樣品臺 | |
| 樣品尺寸（mm） | 3 或者 2.3 |
樣品夾持 標準 可選 | 石墨臺 |
| 轉速 (rpm) | 1 – 6 |
| 離子束調制 | 角度范圍可調的單向調制或雙向調制 |
| X, Y 方向平移 (mm) | ±0.5 |
樣品觀察 Option 1 Option 2 | 雙目顯微鏡 數碼變焦顯微鏡及 DM 軟件存儲（選配） |
| 真空系統 | |
| 干泵系統 | 80 L/s 的渦輪分子泵，具備兩級隔膜前級泵 |
壓力 (torr) 基本壓力 工作壓力 | 5 x 10-6 8 x 10-5 |
| 真空規 | 冷陰極型，用于主樣品室；固體型，用 于 前級機械泵 |
樣品氣鎖 | 樣品交換時間小于1 分鐘 |
| 用戶界面 | |
10 英寸彩色觸摸屏 | 操作簡單，可用于顯示和控制所有 PIPS |
| 尺寸及使用要求 | |
| 外形尺寸 (長 x 寬 x 高, mm) | 547 x 495 x 615 |
| 運輸重量 (kg) | 45 |
功耗 (W) 運行時 待機時 | 200 100 |
電源要求 | 通用100/240 VAC, 50/60 Hz（用戶電壓和頻率） |
| 氬氣 (psi) | 25 |
| 注：以上技術規格如有變化將不另行通知。 | |
訂購型號
| 型號 | 規格描述 |
| 695 Basic | PIPS II 系統 |
| 695 Cool | PIPS II 系統，包含冷臺 |
695 Plus | PIPS II 系統,不含冷臺，包含配備 DM 的數碼變焦顯微鏡 |
695 Pro | PIPS II Pro 系統,含冷臺以及配備 DM 的數碼變焦顯微鏡 |
695 Advantage | PIPS II Advantage 系統,含PIPS II Pro+馬達驅動離子槍 |
| 注：關于配件和耗材的詳細情況，請咨詢我公司銷售。 | |
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