詳細摘要: 一、主要供半導體器件、集成電路生產過程中作等離子去膠工藝用,同時也可兼作刻蝕工藝使用
產品型號:所在地:海口市更新時間:2023-06-29 在線留言中普尼實業集團(海南)有限公司
暫無信息 |
詳細摘要: 一、主要供半導體器件、集成電路生產過程中作等離子去膠工藝用,同時也可兼作刻蝕工藝使用
產品型號:所在地:海口市更新時間:2023-06-29 在線留言詳細摘要: 產品用途與特點:1、本產品利用低能量平行Ar﹢離子束對基片表面進行轟擊,將基片表面未覆蓋掩膜的部分濺射出,從而達到選擇刻蝕的目的
產品型號:所在地:海口市更新時間:2023-06-29 在線留言詳細摘要: 產品用途與特點:1、本產品通過物理與化學相結合的方法,對亞微米一下線條進行干法刻蝕,以形成精細圖形
產品型號:所在地:海口市更新時間:2023-06-29 在線留言詳細摘要: 反應離子刻蝕設備CPN-H67-12A型:該設備主要用于半導體集成電路制造中氮化硅、多晶硅、二氧化硅的干法刻蝕;而且還能刻蝕鉻、氧化鉻、鋁等
產品型號:所在地:海口市更新時間:2023-06-29 在線留言詳細摘要: 本設備是為淀積設備配套而設計的,主要用于半導體集成電路制造過程中對氮化硅、多晶硅的干法腐蝕;而且還能刻蝕二氧化硅、鉻、氧化鉻等各種介質膜和金屬膜
產品型號:所在地:海口市更新時間:2023-06-29 在線留言詳細摘要: 1、本設備可在硅片、陶瓷、玻璃、石英、金屬等材料表面鍍制各種金屬、非金屬、化合物薄膜材料
產品型號:所在地:海口市更新時間:2023-06-29 在線留言詳細摘要: 產品用途與特點1、本設備可在硅片、陶瓷、玻璃、石英、金屬等材料表面沉積SIOx、SINx、非晶硅、微晶硅、納米硅、SIC、類金剛石等多種薄膜,并可沉積摻雜薄膜
產品型號:所在地:海口市更新時間:2023-06-29 在線留言詳細摘要: Model:Mini-40簡述:1,外形小巧、操作方便.2,加熱板面均一性好.3,升溫快速、溫度高達400℃.4,微處理器芯片精確控溫.總附:具有體積小、重量輕...
產品型號:所在地:海口市更新時間:2023-06-29 在線留言詳細摘要: 101A系列電熱鼓風干燥箱一、概述:101A系列電熱鼓風干燥箱表面均采用優質鋼及表面烘漆,工作室的箱底設有進風口,冷空氣從箱底流進,由箱頂排氣孔排出
產品型號:所在地:海口市更新時間:2023-06-29 在線留言詳細摘要: CPN-ITHMSA型智能定時磁力(加熱板)攪拌器:CPN-ITMSA型智能定時(加熱板)攪拌器,采用方形TU2紫銅板真空鍍膜/黑晶陶瓷面板加熱面加熱,美觀防腐
產品型號:所在地:海口市更新時間:2023-06-29 在線留言詳細摘要: CPN-PSD-100/OP型凈化顯影機亦是CPN-PS系列產品的基礎品種之一,是半導體器件制造過程中的專用工藝設備,采用*的單片微型機程序自動控制,實現噴霧顯...
產品型號:所在地:更新時間:2023-04-15 在線留言您感興趣的產品PRODUCTS YOU ARE INTERESTED IN
包裝印刷網 設計制作,未經允許翻錄必究 .? ? ?
請輸入賬號
請輸入密碼
請輸驗證碼
請輸入你感興趣的產品
請簡單描述您的需求
上傳附件
請選擇省份