中國.鑫有研電子科技有限公司
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雙面對準紫外光刻機型號：URE-2000S/25型 該機采用創的CCD圖像底面對準技術，單曝光頭正面曝光實現雙面對準的總體設計技術
雙面對準紫外光刻機
型號：URE-2000S/25型
該機采用創的CCD圖像底面對準技術，單曝光頭正面曝光實現雙面對準的總體設計技術。采用新穎的高精度、多自由度掩模—樣片精密對準工件臺結構設計，掩模—樣片對準過程直觀，套刻對準速度快、精度高。掩模板與樣片的放置采用推拉式基準平板、真空吸附式，操作方便。
采用創新技術——積木錯位蠅眼透鏡平滑衍射效應和實現均勻照明；
1、采用三爪和球氣浮同時找平，無論大片、小片調平精度均高；
2、具備真空接觸曝光、硬接觸曝、壓力接觸曝光，以及接近式曝光四種功能；
3、自動分離對準間隙和消除曝光間隙，間隙分離可達500μm；
4、高倍率雙目雙視場顯微鏡和19英寸寬屏液晶顯示同時觀察對準過程，
并提供USB輸出；既滿足高精度對準，又可用于檢測曝光結果，且曝光結果和
方便存儲；
5、電機機構、彈性元件和傳感器保證接觸曝光壓力合適且重復性好；
7、曝光波長采用純凈365nm,冷光照明（曝光面能量15mW/cm ，溫度小于30度）；
8、對準完成，自動消除曝光間隙，無橫向漂移且可通過監視器觀察；
9、快門可以單獨開啟，也可以數字設定自動倒計時曝光（設定范圍0.1s-9999.9s）；
10、采用350W進口（德國）直流汞燈，可調節光的能量密度；
11、汞燈具有高亮度和“待機"兩種方式，即曝光時采用高亮度照明，而不曝光
時采用低亮度的“待機"，從而延長了汞燈壽命。
12、設備外形美觀精制，性能非常可靠；
13、上下片、版十分方便，自動化程度很高，操作簡便。
二．技術參數
1、曝光面積：110mm×110mm
2、曝光波長：365nm
3、分辨力：1.2μm（膠厚1.5um的正膠）
4、對準精度：單面±0.8μm，雙面±2.5μm
5、掩模尺寸：3寸、4寸、5寸、7寸
6、承片臺：2寸、3寸、4寸、6寸
7、樣片尺寸直徑Ф30mm--Ф150mm(可適應非標準片或碎片) 厚度0.1mm-6mm(可擴展為15mm)
8、照明均勻性：±3.5%（Ф100mm范圍）±5%（Ф150mm范圍）
9、掩模相對于樣片運動行程： X:±5mm; Y:±5mm; θ: ±6度
10、汞燈功率：1000W（直流 德國歐司朗長壽命型）
11、曝光方式：定時（到計時方式0.1s—9999.9s任意設定）
12、膠厚：400um
13、光源平行性：6度
14、雙目雙視場顯微鏡：物鏡三隊：4X、10X、20X，目鏡三對：10X、16X、20X
應用領域
集成電路芯片、電子封裝、微電子機械系統、微光學元件、紅外探測器生物電泳芯片、激光二極管光刻、光柵光刻，波導陣列光刻、液晶顯示聲表器件、平板顯示器、大尺寸光柵、碼盤刻劃等
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