VAC-W系列HMDSyuchuli真空烤箱用于在涂膠前對晶片進行預處理。設備由腔體、真空、加熱、充氮、加液及控制等系統組成。通過多次預抽真空，150oC熱氮加熱，既能達到使硅片表面干燥、潔凈的效果，又能夠有效的防止硅片的氧化和雜質的擴散，并且可以通過加液系統在硅片表面開成HDMS保護膜，從而使硅片具有良好的涂膠性能。和手工涂布HMDS相比，具有重復性好，節省藥液，環保，對人體無害的顯著優點；也可用于晶片其它工藝的清洗。控制采用PLC，人機界面采用觸摸屏，具有可靠性高，操作方便、直觀等特點。
標準功能：

u LCC臨時高達500°F（260°C）的LCD溫度。高達662°F（350°C）

u 真空度可達1托（133Pa）

u 不銹鋼內部和外部，所有內部接縫連續焊接在絕緣側，以保護腔室免受污染

u 制具有大型LCD顯示屏，集成數據記錄功能和USB端口，可實現簡單的烤箱設置和數據導出

u Modbus通信連接，用于遠程監控和記錄

u 循環結束和高限制聲光報警

u 可編程門鎖

u 開放式控制面板

選項：

u 數據采集軟件

u 無油真空泵

u 自動HMD添加裝置

u 符合CE標準